Mae Shanghai Deborn Co., Ltd. wedi bod yn delio ag ychwanegion cemegol ers 2013, cwmni wedi'i leoli yn Ardal Newydd Pudong yn Shanghai.
Mae Deborn yn gweithio i ddarparu cemegau ac atebion ar gyfer diwydiannau tecstilau, plastigau, haenau, paent, electroneg, meddygaeth, cartref a gofal personol.
Gwrth-fflam adweithiol di-halogen ar gyfer resinau epocsi, y gellir eu defnyddio mewn capsiwleiddio PCB a lled-ddargludyddion, asiant gwrth-felynu proses gyfansawdd ar gyfer ABS, PS, PP, resin epocsi ac eraill. Canolradd gwrth-fflam a chemegau eraill.
Gellir ei doddi ym mhob toddydd cyffredin, yn anhydawdd mewn dŵr. Mae ganddo gydnawsedd da â PVC, polywrethan, resin epocsi, resin ffenolaidd, NBR a'r rhan fwyaf o'r plastigyddion monomer a polymer. Mae CDP yn dda am wrthwynebiad olew, priodweddau trydanol rhagorol, sefydlogrwydd hydrolytig uwchraddol, anwadalrwydd isel a hyblygrwydd tymheredd isel.
Asiant niwcleeiddio hynod effeithiol ar gyfer polyolefin, sy'n gallu codi tymheredd crisialu resin matrics, tymheredd ystumio gwres, cryfder rensie, cryfder arwyneb, cryfder effaith modwlws plygu, ac ar ben hynny, gall wella tryloywder resin matrics yn fawr.
NA11 yw'r ail genhedlaeth o asiant niwcleiadu ar gyfer crisialu polymerau fel halen metel o gemegyn math ester organofosfforig cylchol.
Gall y cynnyrch hwn wella priodweddau mecanyddol a thermol.
Mae asiant tryloyw niwcleo 3988 yn hyrwyddo'r resin i grisialu trwy ddarparu niwclews grisial ac yn gwneud strwythur y grawn grisial yn fân, gan wella anhyblygedd y cynhyrchion, tymheredd ystumio gwres, sefydlogrwydd dimensiwn, tryloywder a llewyrch.
Y cynnyrch yw'r ail genhedlaeth o asiant tryloyw niwcleadu sorbitol a'r asiant tryloyw niwcleadu polyolefin a gynhyrchir a'i fwyta'n helaeth yn y byd heddiw. O'i gymharu â'r holl asiantau tryloyw niwcleadu eraill, dyma'r un mwyaf delfrydol a all roi tryloywder, llewyrch a phriodweddau mecanyddol uwch i gynhyrchion plastig.
Mae UV5151 yn gymysgedd hylif o amsugnwr UV hydroffilig 2-(2-hydroxyphenyl)-benzotriazole (UVA) a sefydlogwr golau amin rhwystredig sylfaenol (HALS). Fe'i cynlluniwyd i gyflawni gofynion cost/perfformiad a gwydnwch uchel ar gyfer haenau diwydiannol ac addurniadol allanol sy'n cael eu cludo gan ddŵr a thoddyddion.
Hydoddedd da a chydnawsedd da; tymheredd uchel a thymheredd amgylchynol, yn arbennig o addas ar gyfer systemau sydd angen haenau powdr halltu tymheredd uchel, haenau coil tywod, haenau modurol.
Mae UV-384:2 yn amsugnydd UV BENZOTRIAZOLE hylifol sy'n arbenigo mewn systemau cotio. Mae gan UV-384:2 sefydlogrwydd thermol da a goddefgarwch amgylcheddol da, sy'n gwneud UV384:2 yn arbennig o addas i'w ddefnyddio o dan amodau eithafol systemau cotio, ac yn bodloni gofynion systemau cotio modurol a diwydiannol eraill ar gyfer nodweddion perfformiad amsugnydd UV. Mae nodweddion amsugno'r ystod tonfedd UV, gan ei wneud yn amddiffyn y system cotio sy'n sensitif i olau yn effeithiol, fel cotiau arwyneb pren a phlastig.
Argymhellir UV 400 ar gyfer systemau cotio OEM ac ail-orffen modurol sy'n cael eu cludo â thoddyddion a dŵr, cotiau wedi'u halltu ag UV, a cotiau diwydiannol lle mae perfformiad hirhoedlog yn hanfodol.
Gellir gwella effeithiau amddiffynnol UV 400 pan gaiff ei ddefnyddio mewn cyfuniadau â sefydlogwr golau HALS fel UV 123 neu UV 292. Mae'r cyfuniadau hyn yn gwella gwydnwch cotiau clir trwy arafu gostyngiad sglein, dadlamineiddio, cracio a phothellu.
Argymhellir LS-144 ar gyfer cymwysiadau fel: haenau modurol, haenau col, haenau powdr
Gellir gwella perfformiad LS-144 yn sylweddol pan gaiff ei ddefnyddio ar y cyd ag amsugnydd UV fel yr un a argymhellir isod. Mae'r cyfuniadau synergaidd hyn yn rhoi amddiffyniad gwell yn erbyn lleihau sglein, cracio, dadlamineiddio pothellu a newid lliw mewn haenau modurol.
Argymhellir UV 99-2 ar gyfer cotio megis: paentiau masnach, yn enwedig staeniau pren a farneisiau clir cymwysiadau diwydiannol cyffredinol systemau diwydiannol pobi uchel (e.e. cotiau coil) Mae'r perfformiad a ddarperir gan UV 99-2 yn cael ei wella pan gaiff ei ddefnyddio ar y cyd â sefydlogwr HALS fel LS-292 neu LS-123.
